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文章阐述了光辅助外延生长的基本原理，光辐射增强生长速率主要有：光分解、光催化和光的热分解三种机制；介绍其在半导体材料外延生长中的具体应用，包括降低温度、掺杂控制、原子层外延和选择性外延；分析了实验中光的作用以及对材料晶体质量和光电特性的影响，为生长高质量材料提供实验基础。
激光增进的半导体异质结外延生长
【摘 要】
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文章阐述了光辅助外延生长的基本原理，光辐射增强生长速率主要有：光分解、光催化和光的热分解三种机制；介绍其在半导体材料外延生长中的具体应用，包括降低温度、掺杂控制、原子层
【机 构】
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中国科学院半导体研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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1999年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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