氢等离子体加热法晶化a-Si：H薄膜

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：halfmile

【摘要】

：

利用氢等离子体加热晶化n+-a-Si∶H/a-Si∶H薄膜,可以在450℃的衬底温度下制备多晶硅薄膜.采用X射线衍射谱、Raman散射谱和扫描电子显微镜等手段进行表征和分析,研究了不同退

【作者】

：

陈城钊林璇英林揆训余云鹏余楚迎

【机构】

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浙江大学,汕头大学

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2004年5期

【关键词】

：

多晶硅薄膜氢等离子体加热退火工艺晶化度 poly-silicon thin film hydrogen plasma heating annealing

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利用氢等离子体加热晶化n+-a-Si∶H/a-Si∶H薄膜,可以在450℃的衬底温度下制备多晶硅薄膜.采用X射线衍射谱、Raman散射谱和扫描电子显微镜等手段进行表征和分析,研究了不同退火条件对薄膜晶化的影响.结果表明,随着射频氢等离子功率的提高、衬底温度升高和退火时间的增加,薄膜的晶化度呈现出增加趋势.

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