【摘 要】
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利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜.采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对P
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利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜.采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦学行为的影响,并探讨了其磨损机制.实验结果表明,薄膜与较硬的偶件材料对摩时,剪切应力较大,薄膜很容易被磨穿,抗磨寿命极短;在相同实验条件下,薄膜与Cu球对摩时,薄膜的耐磨寿命最长,不锈钢球次之,与Si3N4球和WC球对摩时,薄膜的耐磨寿命较短.
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