氟化氢与涂有聚合物膜下二氧化硅的反应研究

来源 :高分子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lixianrong1017

【摘要】

：

ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生，当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应的发生，这些化合物被称为诱蚀剂。诱蚀剂分三

【作者】

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洪啸吟段生权

【机构】

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清华大学化学系

【出处】

：

高分子学报

【发表日期】

：

1998年2期

【关键词】

：

诱蚀剂聚合物膜光刻氟化氢二氧化硅刻蚀 Accelerator Nucleophilic reaction Polymer film Photolith

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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ＨＦ与ＳｉＯ２的反应是一种亲核取代反应，但高温下此反应不能发生，当涂覆在ＳｉＯ２表面的聚合物膜中含有某些特殊的有机化合物或超强酸时，可以促进该反应的发生，这些化合物被称为诱蚀剂。诱蚀剂分三类：１．三级胺与ＨＦ形成季铵盐得到浓度很高的氟阴离子使该反应很容易发生；２．强的偶极非质子官能团化合物与ＨＦ中的氢形成氢键使氟的亲核活性增加，有助于该反应发生；３．超强酸因其质子对ＳｉＯ２骨架中氧的牢固结合能力活

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