【摘 要】
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利用DC Arc Plasma Jet CVD法制备搀杂氮的金刚石厚膜.研究了在反应气体CH4/Ar/H2中加入N2对金刚石膜显微组织和力学性能的影响.在固定H2、Ar、CH4流量的情况下改变N2的流量,
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划(863计划),北京科技大学校科研和教改项目
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利用DC Arc Plasma Jet CVD法制备搀杂氮的金刚石厚膜.研究了在反应气体CH4/Ar/H2中加入N2对金刚石膜显微组织和力学性能的影响.在固定H2、Ar、CH4流量的情况下改变N2的流量,即反应气体中氮原子和碳原子的变化比例(N/C比,范围从0.06~0.68),同时在固定的腔体压力(4kPa)和衬底温度(800℃)下进行金刚石膜生长.用扫描电镜(SEM)观察金刚石膜形貌、用X射线衍射表征晶体取向,用三点弯曲的方法来测量金刚石膜的断裂强度.结果表明,氮气在反应气体中的大量加入,对直流等离子
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