【摘 要】
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将氢化非晶碳薄膜(GDα-C:H)应用于硅半导体晶体管的表面钝化,取得了与α-Si:H 膜相类似的效果。对α-C:H 的钝化机理进行了初步探讨。
Hydrogenated amorphous carbon film
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将氢化非晶碳薄膜(GDα-C:H)应用于硅半导体晶体管的表面钝化,取得了与α-Si:H 膜相类似的效果。对α-C:H 的钝化机理进行了初步探讨。
Hydrogenated amorphous carbon film (GDα-C: H) is applied to the surface passivation of silicon semiconductor transistors to obtain the similar effect as the α-Si: H film. Passivation mechanism of α-C: H was discussed.
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