【摘 要】
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掺硼金刚石膜（ B D D） 具有良好的力学性质、 生物相容性和表面抗污染性, 有望在体内植入中保持长期的稳定性.以液态硼酸三甲酯为硼源, 采用光刻工艺和选择性生长法制备线宽为2
【基金项目】
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电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放课题(KFJJ201313)
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掺硼金刚石膜（ B D D） 具有良好的力学性质、 生物相容性和表面抗污染性, 有望在体内植入中保持长期的稳定性.以液态硼酸三甲酯为硼源, 采用光刻工艺和选择性生长法制备线宽为2 0 0 μm 和1 0 0 μm的B D D膜叉指微电极, 所制备的微电极边界清晰规整、 薄膜质量良好, 图形区薄膜的选择性高.采用电化学工作站表征电极在电解质溶液中的循环伏安行为和阻抗特性, 结果表明： 掺硼金刚石膜电极的尺寸和形状对电化学窗口和背景电流影响较小.2 0 0 μm和1 0 0 μm的叉指电极相邻微带电极间扩散方
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