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尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法。玻璃划片形成的柱状阵列,经掩膜腐蚀后形成阳模板,再利用PDMS的微复制技术形成阴模板。利用阴模板进行电镀,可以得到三维微电极阵列。制作的铜电极阵列高度约180μm,为制作更长的神经微电极阵列打下了基础。
三维神经微电极阵列新制作技术研究
【摘 要】
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尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法。玻璃划片形成的柱状阵列,经掩膜腐蚀后形成阳模板,再利用PDMS的微复制技术形成阴模板。利用阴模板进行电镀,可以得到三维
【机 构】
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复旦大学微电子学系专用集成电路及系统国家重点实验室,中国科学院上海技术物理研究所
【出 处】
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传感技术学报
【发表日期】
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2008年4期
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