铬及铍表面辉光放电清洗的研究

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【摘要】

：

本文对He辉光放电清洗后的铬(Cr)表面杂质去除情况和铍(Be)样品真空出气量变化进行了实验研究.使用场发射扫描电镜和表面质量测量仪对比观察了不同放电参数处理后的Cr样品表

【作者】

：

田喜庆黄天斌陈旭

【机构】

：

"清华大学电子工程系,北京,100084;

【出处】

：

真空

【发表日期】

：

2006年5期

【关键词】

：

辉光放电清洗表面粗糙度出气率

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本文对He辉光放电清洗后的铬(Cr)表面杂质去除情况和铍(Be)样品真空出气量变化进行了实验研究.使用场发射扫描电镜和表面质量测量仪对比观察了不同放电参数处理后的Cr样品表面,结果显示在放电功率为200～300 W、放电室压强为1～10 Pa、清洗时间为10～20 min时可较好地清除表面杂质和降低表面粗糙度;对辉光放电处理前后Be样品出气情况的实验对比结果显示,清洗后1 h内总出气量约降为清洗前的1/6.

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