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利用改进后的对靶磁控溅射系统,以N2/Ar混合气体为溅射气体,在未加热的Si（111）衬底上沉积FeCoN薄膜.采用X射线衍射仪（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）和超导量子干涉仪（SQUID）研究不同Co靶溅射功率对FeCoN薄膜样品的结构、形貌和磁性性能的影响.结果表明：固定Fe靶功率为160 W（电流I=0.4 A）,当Co靶功率为2.4 W（I=0.04 A）时,薄膜由Co溶入ε-Fe3N中形成的ε-（Fe,Co）3N化合物相构成;当Co靶功率为58 W（I=0.2 A）