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用正电子湮没技术,研究了未掺杂的SI-GaAs退火行为。结果表明,长寿命分量τ_2的变化不仅与镓空位而且和多镓空位络合物有关。本文还讨论了电子和中子辐照的影响。
未掺杂SI-GaAs退火行为的正电子湮没研究
【摘 要】
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用正电子湮没技术,研究了未掺杂的SI-GaAs退火行为。结果表明,长寿命分量τ_2的变化不仅与镓空位而且和多镓空位络合物有关。本文还讨论了电子和中子辐照的影响。
【机 构】
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南京大学物理系,南京大学物理系
【出 处】
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南京大学学报：自然科学版
【发表日期】
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1990年1期
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