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Oxygen Induced Limitation on Grain Growth in RF Sputtered Indium Tin Oxide Thin Films
【机 构】
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DepartmentofElectricalEngineeringandComputerScience,DepartmentofPhysics
【出 处】
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能源与动力工程：英文版
【发表日期】
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2014年7期
【基金项目】
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AcknowledgementThe authors would like to thank Dr. Q. Qiao and V. Swaminathan for providing AFM measurements. This work has been supported by National Science Foundation/EPSCoR Grant No. 0903804 and b
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