铝合金基电沉积Ni-SiC复合镀层的结构及耐磨性研究

来源 :材料保护 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ec54lulu

【摘要】

：

利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,

【作者】

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吴向清谢发勤

【机构】

：

西北工业大学工程实践训练中心,西北工业大学民航工程学院

【出处】

：

材料保护

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

电沉积 Ni-SiC复合镀层 X射线衍射谱耐磨性

【基金项目】

：

航空科研项目;

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利用X射线衍射技术,分析了Ni-SiC复合镀层的微观结构,同时对镀层的耐磨性能进行了研究.结果表明:(1)Ni-SiC复合镀层的结构为晶态,SiC微粒的嵌入不改变其组织结构,经过500 ℃,2 h热处理后,产生新相Ni3Si,使镀层性能下降.(2) 在300 ℃,2 h热处理条件下,Ni-SiC复合镀层体积比磨损量分别是硬Cr镀层和纯Ni镀层的31%和11.6%.

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