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闪存不断推动着器件尺寸等比例缩小的进程,高数值孔径浸没式光刻使得45nm及以下技术节点成为可能。一些掩膜参数对于成像性能有很重要的影响,并且曝光前掩膜的空间成像可以用于定义成像质量。
掩膜级测量为闪存设计预测成像质量
【摘 要】
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闪存不断推动着器件尺寸等比例缩小的进程,高数值孔径浸没式光刻使得45nm及以下技术节点成为可能。一些掩膜参数对于成像性能有很重要的影响,并且曝光前掩膜的空间成像可以用
【机 构】
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ASMLNetherlandsBV,ASMLTDC,CarlZeissSMSGmbH
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2008年11期
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