硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法

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为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形,在氢终止硅(111)表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置,并用AFM、XPS、接触角测定等验证了这种方法的可行性.
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