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在俄歇电子能谱仪超高真空室内，采用离子束溅射沉积方法在多晶Cu上沉积了铀薄膜，采用俄歇电子能谱技术（AES）研究铀薄膜的生长方式，铀、铜的相互作用及退火引起u膜成分结构变化。沉积初期观察到铀与铜发生相互作用，随着铀薄膜厚度的增加，UOPV／CuLMM俄歇跃迁峰强度值变化说明铀薄膜为层状＋岛状生长。退火促进了界面扩散，随着温度的升高，铀与铜发生了相互作用和扩散，温度继续升高，铀与碳形成了铀碳化物。