【摘 要】
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锡掺杂氧化铟(InO2-SnO2,ITO)薄膜因具有良好的电学及透过性能而被广泛应用。本文以化学钢化玻璃为基体,采用磁控溅射对玻璃基体进行锡掺杂氧化铟(InO2-SnO2,ITO)薄膜的制备
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锡掺杂氧化铟(InO2-SnO2,ITO)薄膜因具有良好的电学及透过性能而被广泛应用。本文以化学钢化玻璃为基体,采用磁控溅射对玻璃基体进行锡掺杂氧化铟(InO2-SnO2,ITO)薄膜的制备。研究了镀膜工艺对玻璃基体力学及透过性能的影响。研究结果表明:镀膜对玻璃强度有一定影响,随着镀膜温度的升高及时间的延长,玻璃的强度和表面应力逐渐下降。ITO薄膜的制备也对玻璃的透过性能有所影响,从92%降低至85%。虽然镀膜工艺降低了玻璃强度及透过性,但是总体影响不大。镀膜温度小于320℃,镀膜时间为1 h,对玻璃性能的影响比较小。
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