【摘 要】
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<正> JKG-3型半自动接近式光刻机最近在沪通过鉴定,大会由光学公司付经理宋长标同志主持,中国科学院学部委员王守觉同志主持了鉴定委员会工作。本机是制造中、大规模集成电路
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<正> JKG-3型半自动接近式光刻机最近在沪通过鉴定,大会由光学公司付经理宋长标同志主持,中国科学院学部委员王守觉同志主持了鉴定委员会工作。本机是制造中、大规模集成电路的专用设备,能够以接近式方式进行曝光,性能稳定可靠,曝光均匀,送取片等工序自动作业并采用分离视场显微镜和双中心对准台,操作方便。同时也可用于软接触法晒印。经测试认为:该机在进行接近式曝光该验时,分离间隙在10～30μm时,负性光刻胶的分辨率
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