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目的:研究左氧氟沙星合成中的缩哌机理及进行异位杂质形成机理的探讨.方法:利用原位红外技术,对左氟羧酸缩哌制成左氧氟沙星的重要步骤进行了跟踪研究.结果:最终捕捉到了中间过渡态的烯醇互变式的特征红外光谱,以及10号位Ar-F键受热消除后1567cm-1特征峰消失的整个过程,分析该特征峰的趋势可以准确的把握反应的进程.结论:最终确定反应的机理为典型的"活化芳烃先加成/后消除的亲核取代反应",并根据有机反应机理中电子有效流动规则,推理出本工艺中N-甲基哌嗪不可能进攻9号位的氟,即不会形成类似EP8.0中氧氟沙星所产生的异位杂质D,这为工艺过程的优化建立了良好的理论基础.