【摘 要】
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采用直流磁控溅射法制备自支撑锆（Zr）膜,采用二步法制备聚酰亚胺（PI）膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐（PMDA）和二甲基二苯醚（ODA）在二甲基乙酰胺（DMAC）中反应
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采用直流磁控溅射法制备自支撑锆（Zr）膜,采用二步法制备聚酰亚胺（PI）膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐（PMDA）和二甲基二苯醚（ODA）在二甲基乙酰胺（DMAC）中反应得到聚酰胺酸（PAA）,然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定,实际测量结果与理论分析一致,PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降,但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI（200 nm）/Zr（300 nm）和PI（200 nm）/Zr（40
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