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本文应用唯象方法，对面心立方晶体的（１１１）面上的显微电化学蚀坑作分形几何分析。提出晶面缺陷的复制侵蚀势概念，此势具有类Ｓｉｅｒｐｉｎｓｋｉ垫结构的自相似复制特征。最后将所得理论结果与红外材料Ｃｄ１－ｘＺｎｘＴｅ晶体的（１１１）面上的电化学蚀坑形貌观察观察结果比较，符合甚好。
面心立方晶体表面蚀坑的分形特征
【摘 要】
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本文应用唯象方法，对面心立方晶体的（１１１）面上的显微电化学蚀坑作分形几何分析。提出晶面缺陷的复制侵蚀势概念，此势具有类Ｓｉｅｒｐｉｎｓｋｉ垫结构的自相似复制特征。最后将所得理论结果与红外材料Ｃｄ１－ｘＺｎｘＴｅ晶
【机 构】
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云南大学物理研究室,昆明物理研究所
【出 处】
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化学物理学报
【发表日期】
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1995年6期
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