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利用电喷雾电离质谱及串联质谱(ESI-MS/MS), 研究Fmoc保护氨基酸在正离子模式下质谱裂解规律. 正离子二级质谱实验中观察到C端羟基的迁移重排反应, 产生[Fmoc-OH+Na]+峰, 提出了可能的重排机理, 推测该重排反应与Fmoc基团、金属离子和金属离子的离子半径大小有关. 在气相条件下, Fmoc基团与羟基具有很强的结合能力.