Reactive DC Magnetron Sputtering Deposition of Copper Nitride Thin Film

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zengbiao2010

【摘要】

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一氮化三铜薄电影被 reactiveDC (直接水流)在玻璃底层上扔磁控管在 0.5 Pa N2 部分压力和不同 substratetemperatures.The 劈啪作响同样准备的电影，与X光检查衍射描绘了，原

【作者】

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Xing＇ao LI Zuli LIU Kailun YAO

【机构】

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DepartmentofPhysics,SclloolofScience,InternationalCenterofMaterialPhysics

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

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2007年4期

【关键词】

：

DC磁控管溅射紫铜氮化物薄膜电阻率显微硬度 DC magnetron sputtering Copper nitride thin film Resi

【基金项目】

：

AcknowledgementThis work was supported by the Key Program of the Education Branch of Hubei Province, China （2003A001 and D200529002）.

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一氮化三铜薄电影被 reactiveDC (直接水流)在玻璃底层上扔磁控管在 0.5 Pa N2 部分压力和不同 substratetemperatures.The 劈啪作响同样准备的电影，与X光检查衍射描绘了，原子力量显微镜学，andX光线光电子光谱学大小，显示出 CU3N 雏晶 withanti-Re03 结构的镇静的结构和结果的电影的细微氧化。CU3N 电影的晶体结构和生长率被底层温度强烈影响。CU3N 电影的比较喜欢的水晶的取向是(111 ) 并且(200 ) 在 RT， 100 座 deg

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