用椭偏法研究掺磷a-Si:H薄膜的光学特性

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用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备了磷掺杂氢化非晶硅(a—Si:H)薄膜。分别以50°和70°为入射角,测试了样品在300-1000nm波长的椭偏光谱,得到了其膜厚和光学常数谱(折射率和消光系数随波长变化谱),并应用Tauc作图法推算出了薄膜的光学带隙。
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