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三价铬电解液镀铬沉积速度的影响因素研究
三价铬电解液镀铬沉积速度的影响因素研究
来源 :电镀与精饰 | 被引量 : 0次 | 上传用户:y3434jkhgkj
【摘 要】
:
对三价铬电解液镀铬的沉积速度进行了实验研究。对施镀过程中沉积速度的影响因素电镀时问、电流密度、温度做了详细的实验测试,实验结果表明,为了获得较高的沉积速度,施镀过程中
【作 者】
:
李艳
【机 构】
:
桂林工学院材料与化学工程系
【出 处】
:
电镀与精饰
【发表日期】
:
2006年3期
【关键词】
:
三价铬电镀
三价铬
沉积速度
trivalent chromium electroplating trivalent chromium deposition v
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对三价铬电解液镀铬的沉积速度进行了实验研究。对施镀过程中沉积速度的影响因素电镀时问、电流密度、温度做了详细的实验测试,实验结果表明,为了获得较高的沉积速度,施镀过程中应该控制电镀时间为2min,电流密度为6A/dm^2,温度为45℃,pH为3-5。
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