论文部分内容阅读
采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2（antimony-dopedt in oxide，ATO）薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征。结果表明：沉积温度为490℃以上时，薄膜主要以四方相金红石结构存在。随着基板输送速度的提高，薄膜择优取向由（110）转变为（200）。薄膜中掺杂的Sb以Sb^5＋的形式存在；当基板温