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利用分子自组装技术在纯铜表面制备十七氟葵基硅烷单分子膜，用X射线光电子能谱对薄膜的表面结构进行表征，分析自组装膜的成膜机制，并利用UMT-3摩擦磨损试验机评价薄膜的摩擦磨损性能。接触角测试表明，该薄膜具有疏水性，其对水的接触角达117°。摩擦磨损实验结果表明，铜片表面沉积硅烷单分子膜可以大幅度降低铜基片的摩擦因数，使铜基片表面的摩擦因数由无膜时的0．8降至0．23，且在低负荷下具有很好的耐磨性。