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基于PI隔离介质的厚膜金属互连工艺,是一种使用新型低K值材料作为隔离介质,并采用电化学沉积作为主要金属生长方式的金属厚膜互联技术,这种技术将有效解决丝网印刷工艺中的导电层图形分辨率低、导电层厚度不易控制、不易制备高熔点金属厚膜导电层等问题,并且利用新型隔离材料将有效减小工艺中产生的寄生电容。
基于PI隔离介质的厚膜金属互连工艺
【摘 要】
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基于PI隔离介质的厚膜金属互连工艺,是一种使用新型低K值材料作为隔离介质,并采用电化学沉积作为主要金属生长方式的金属厚膜互联技术,这种技术将有效解决丝网印刷工艺中的导
【机 构】
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苏州市职业大学电子信息工程学院
【出 处】
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中国设备工程
【发表日期】
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2021年3期
【基金项目】
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2019年度苏州市职业大学研究性课程项目,“光催化材料的制备及应用”(SZDYKC-190712),2018年度苏州市职业大学校级教改项目,基于“校企合作、工学结合”的“中科纳米班”人才培养模式的探索(SZDJG-19016)的研究成果
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