Surface Polishing of 6H-SiC Substrates

来源 :材料科学技术学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tiancai9550
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为硅碳化物擦亮的表面(原文如此)底层被调查 andresults 为机械擦亮被介绍( MP )并且chemo机械的擦亮( CMP ) .High qualitysurfaces 在 CMP 期间在物理的 MP anddetailed 和化学过程与擦伤的胶体的 silica.The 移动机制在 CMP 以后被获得是 MP 和 CMP 的 analyzed.The 效果在 thesurface 上,粗糙被光显微镜学( OM )估计,原子力量显微镜学( AFM )和高分辨率 X
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