【摘 要】
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采用静态氧化法对不同温度下TiB2陶瓷的氧化行为进行研究,利用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪对氧化前后的样品进行表征。结果表明:低温下TiB2陶瓷氧化动力学满足
【机 构】
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武汉理工大学复合材料新技术国家重点实验室武汉理工大学复合材料新技术国家重点实验室武汉
【基金项目】
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教育部重大培育和创新团队(704034),, 湖北省创新群体(2006ABC006)资助项目
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采用静态氧化法对不同温度下TiB2陶瓷的氧化行为进行研究,利用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪对氧化前后的样品进行表征。结果表明:低温下TiB2陶瓷氧化动力学满足抛物线规律,并在表面形成液相B2O3,阻止氧化反应的进一步进行,冷却后B2O3以玻璃态覆盖在表面。高温下TiB2氧化反应在4 h前满足抛物线规律,表面形成一层TiO2多孔结构;氧化4 h后,随着氧扩散距离的延长,扩散阻力加大,从而使氧化速率降低,氧化反应不再满足抛物线规律。
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