【摘 要】
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采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350~600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理。利用X射线衍射分析了
【机 构】
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合肥工业大学材料科学与工程学院,合肥工业大学机械学院真空实验室
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采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350~600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理。利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率、溅射氧分压、衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响。结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量。
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