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硫化物钝化GaAs表面的研究进展
硫化物钝化GaAs表面的研究进展
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nhekccxeadk
【摘 要】
:
叙述用硫钝化GaAs表面的研究动态,包括表面处理工艺,已取得的效果及表面钝化的机理,并指出今后的研究内容。
【作 者】
:
许春芳
卢学坤
【机 构】
:
华东师大,复旦大学
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1991年5期
【关键词】
:
GAAS
硫化物
钝化
半导体材料
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叙述用硫钝化GaAs表面的研究动态,包括表面处理工艺,已取得的效果及表面钝化的机理,并指出今后的研究内容。
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