内表面栅极等离子体源离子注入TiN薄膜及其特性研究

来源 :物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shanyuqi0513
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阐述了栅极增强等离子体源离子注入 (GEPSII)方法的基本思想 .利用GEPSII方法在 4 5号钢基底上生成了金黄色氮化钛 (TiNx)膜 .对不同条件下的TiN膜做电化学腐蚀 ,XPS ,AES ,XRD等分析 .电化学腐蚀实验显示TiN薄膜改善了 4 5号钢的耐腐蚀性能 5— 10倍 ,且在高气压下效果更好 .结构分析显示TiN膜含有TiO2 ,TiN成分 ,主要沿( 111)和 ( 2 0 0 )晶向生长 ,深度分析显示膜的厚度只有二十几纳米 ,膜质地均匀且在基底有一定的嵌入深度
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