KZ-400离子束刻蚀装置的研制

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【摘要】

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日前我室为制作大口径（400 mm×400 mm）衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置.它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实

【作者】

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徐朝银董晓浩赵飞云高飞徐德权凤良杰阎佐健孙继武

【机构】

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中国科学科技大学国家同步辐射实验室,沈阳市慧宇应用技术研究所

【出处】

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真空科学与技术学报

【发表日期】

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2006年1期

【关键词】

：

离子束刻蚀有限元分析扫描运动束流密度均匀性优化设计 Ion beam etching Finite element analysis Scannin

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日前我室为制作大口径（400 mm×400 mm）衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置.它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀.通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置性能的主要因素,优化工艺结构,使各项指标达到了设计要求,现已投入运行.

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