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报道了采用最佳能量（高能１２ＭｅＶ）电子，辐照快速可控硅，解决了低能（≤４ＭｅＶ）电子辐射照快速控硅热稳定性差的难题，这对我国半导体器件的电子辐照推广应用将有一定的经济价值。
采用高能12MeV电子辐照技术制造快速可控硅
【摘 要】
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报道了采用最佳能量（高能１２ＭｅＶ）电子，辐照快速可控硅，解决了低能（≤４ＭｅＶ）电子辐射照快速控硅热稳定性差的难题，这对我国半导体器件的电子辐照推广应用将有一定的经济价值。
【机 构】
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南京大学加速器研究所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1995年3期
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