TMAH硅湿法刻蚀剂中异丙醇与氧化剂的协同作用

来源 :广西师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：honeykaka

【摘要】

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四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂.在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的

【作者】

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陈东刘诗斌梁晋涛

【机构】

：

西北工业大学电子信息学院,西安邮电大学电子工程学院,桂林电子科技大学环境与生命科学学院

【出处】

：

广西师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2014年2期

【关键词】

：

四甲基氢氧化铵硅湿法刻蚀过硫酸铵异丙醇

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四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种在微机电系统加工中常用的硅湿法刻蚀剂.在对含有铝结构表面的硅器件进行湿法刻蚀时,需要在TMAH溶液中添加一定量的硅酸和氧化剂,以保护器件表面的金属铝,但这会降低硅表面的光洁度.本文在含硅酸的TMAH溶液中同时添加过硫酸铵和异丙醇2种物质,研究其对TMAH刻蚀作用的影响.研究结果表明,2种物质的协同作用能够显著提高硅刻蚀表面的光洁度.

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