【摘 要】
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使用超紫外线光刻技术（ＥＵＶ）的芯片制造机器在实验室揭开面纱。如果这项技术走出实验室，它有望维持芯片处理能力的持续提高的期限再延长３０年。 这种超紫外线光刻技术能够将芯片的规格
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使用超紫外线光刻技术（ＥＵＶ）的芯片制造机器在实验室揭开面纱。如果这项技术走出实验室，它有望维持芯片处理能力的持续提高的期限再延长３０年。 这种超紫外线光刻技术能够将芯片的规格缩小到０．０３μｍ，其技术关键在于紫外光的波长，因为超紫外光有较短的波长，能够将
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