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紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用
紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用
来源 :仪器仪表学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tuwei0164
【摘 要】
:
研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用.实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究.结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏
【作 者】
:
李雯
谭智敏
薛昕
刘理天
【出 处】
:
仪器仪表学报
【发表日期】
:
2003年z2期
【关键词】
:
紫外厚胶光刻
3-D
MEMS
电
感
UV lithography3-DMEMSInductor
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研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用.实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究.结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为结构复杂的三维微机械电感的制作提供了保证.
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