【摘 要】
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以单丁三氯化锡（C4H9SnCl3）为前驱物,三氟乙酸（CF3COOH）为掺杂元素F的引入剂,H2O为催化剂,采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃生产线上直接制备了F掺杂的SnO2膜（SnO2：F）。采用X射线衍
【机 构】
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亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室,燕山大学材料科学与工程学院,杭州蓝星新材料技术有限公司
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以单丁三氯化锡（C4H9SnCl3）为前驱物,三氟乙酸（CF3COOH）为掺杂元素F的引入剂,H2O为催化剂,采用常压化学气相沉积法在浮法玻璃生产线上直接制备了F掺杂的SnO2膜（SnO2：F）。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、椭圆偏光仪、紫外-可见光谱研究H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响。结果表明：水对薄膜结构和性能均有显著的影响,随着催化剂H2O含量的增加,SnO2：F为四方相金红石结构,薄膜结晶度提高,致密性得到改善,膜厚有所增加,方块电阻下降。在H2O含量为1.8mol/L时效果较好。
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