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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hahaho520
【摘 要】
:
利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了
【作 者】
:
王怀义
刁训刚
王武育
杨海刚
丁破
郝维昌
王天民
【机 构】
:
北京航空航天大学,北京印刷学院,北京有色金属研究总院
【出 处】
:
功能材料
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
磁控溅射
纳米微晶
NiOx薄膜
【基金项目】
:
国家重点基础研究发展计划(973计划);
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利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.
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