【摘 要】
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采用射频等离子增强化学气相沉积法(PECVD)制备掺氮类金刚石薄膜(DLC:N),通过原子力显微镜,拉曼光谱和椭圆偏振光谱等对试验样品进行研究,实验结果表明,在薄膜中,氮元素主要
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采用射频等离子增强化学气相沉积法(PECVD)制备掺氮类金刚石薄膜(DLC:N),通过原子力显微镜,拉曼光谱和椭圆偏振光谱等对试验样品进行研究,实验结果表明,在薄膜中,氮元素主要以C=N键的形式存在,起到了降低薄膜内应力,提高薄膜附着力的作用;此外,通过控制掺氮量可以制得折射率在1.85～1.6范围内的DLC薄膜。
The nitrogen doped diamond films (DLC: N) were prepared by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The samples were studied by atomic force microscopy, Raman spectroscopy and ellipsometry. The experimental results showed that nitrogen The elements mainly exist in the form of C = N bonds, which play a role of reducing the stress in the film and improving the adhesion of the film. In addition, the DLC film with the refractive index of 1.85-1.6 can be obtained by controlling the nitrogen content.
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