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大脑皮层成像技术（ＣＩＴ）是近年出现的，比较有潜力的脑电三维形态反演方法。本文仿真研究了该方法对偶极源、点电流源和四极源的成像误差，分析了误差的成因。本文有关结果对于进一步完善ＣＩＴ技术和促进它在临床上的应用具有一定的价值。
大脑皮层成像技术的成像误差
【摘 要】
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大脑皮层成像技术（ＣＩＴ）是近年出现的，比较有潜力的脑电三维形态反演方法。本文仿真研究了该方法对偶极源、点电流源和四极源的成像误差，分析了误差的成因。本文有关结果对于进一步完
【机 构】
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电子科技大学
【出 处】
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中国医疗器械杂志
【发表日期】
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1995年4期
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