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砷化镓工艺过程中出现的问题往往与杂质的分布有关,二次离子质谱技术是研究各种成分的三维分布的主要测试方法之一,由于其自身的特点使其成为分析器件失效原因的最有效的检测手段.利用SIMS技术对砷化镓材料、离子注入、外延生长、光刻、欧姆接触形成、肖特基势垒形成及钝化等工艺中出现的典型问题进行了研究分析,找出了失效原因,为改进工艺提供了依据.