【摘 要】
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目的:观察不同的磨抛程序和自上釉的陶瓷表面的粗糙度,为临床陶瓷修复体抛光提供可参考的依据.方法:按照不同的抛光程序进行分组,以自上釉组作为对照组.在抛光过程中以粗糙度
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目的:观察不同的磨抛程序和自上釉的陶瓷表面的粗糙度,为临床陶瓷修复体抛光提供可参考的依据.方法:按照不同的抛光程序进行分组,以自上釉组作为对照组.在抛光过程中以粗糙度测试仪测试抛光过程中陶瓷表面粗糙度变化并进行统计学分析.结果:经由粗到细的磨抛工具进行抛光后,陶瓷表面粗糙度均稳步下降,各组在使用ceramaster抛光头后表面粗糙度值趋于稳定,与其后使用抛光膏抛光后已无显著性差异(P＞0.05),凡是经Ceramaster及抛光膏抛光后的实验组陶瓷表面粗糙度与对照(上釉)组无显著差异(P＞0.05).结论
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