低温等离子体技术制备有机薄膜的研究进展

来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：awangya

【摘要】

：

概述了利用低温等离子体技术制备有机薄膜的主要方法、特性、应用及研究现状,简要讨论了等离子体工艺条件对薄膜结构和性质的影响,介绍了现代分析技术对有机薄膜结构的表征,

【作者】

：

杨隽汪建华

【机构】

：

中国科学院等离子体物理研究所,武汉化工学院材料科学与工程学院

【出处】

：

表面技术

【发表日期】

：

2004年6期

【关键词】

：

低温等离子体有机薄膜表面性质应用 Cold-plasma Organic thin films Surface property Applicati

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概述了利用低温等离子体技术制备有机薄膜的主要方法、特性、应用及研究现状,简要讨论了等离子体工艺条件对薄膜结构和性质的影响,介绍了现代分析技术对有机薄膜结构的表征,阐述了近年来对低温等离子体有机薄膜物理和化学性质,包括表面性质,渗透性,电学和光学性质等方面的研究新进展,并描述了其在工业生产上的一些应用.

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