射频磁控溅射法制备氧化铝涂层绝缘性能及吸氢特性

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【摘要】

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氧化铝具有优良的绝缘和阻氚性能,是ITER候选功能材料之一。本工作采用射频磁控溅射法在中国低活化马氏体（CLAM）钢基底上制备了氧化铝涂层。分别采用掠入射X射线衍射、Raman激

【作者】

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宋斌斌吴平陈森巨新赵以德张师平闫丹李新连

【机构】

：

北京科技大学应用学院,兰州物理研究所,中微光电子有限公司

【出处】

：

原子能科学技术

【发表日期】

：

2010年11期

【关键词】

：

氧化铝涂层绝缘性能吸氢 aluminum oxide coatings insulation hydrogen absorption

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氧化铝具有优良的绝缘和阻氚性能,是ITER候选功能材料之一。本工作采用射频磁控溅射法在中国低活化马氏体（CLAM）钢基底上制备了氧化铝涂层。分别采用掠入射X射线衍射、Raman激光光谱和原子力显微镜对氧化铝涂层的结构和表面形貌进行了表征;测量了氧化铝涂层体电阻率;研究了氧化铝涂层样品的吸氢特性。结果表明：氧氩比为0.1和0.5下制备的氧化铝涂层为非晶结构,氧氩比为0.4下制备的涂层中出现了结晶程度较差的氧化铝δ相结构;氧氩比为0.1和0.4下制备的涂层粗糙度和粒径均小于氧氩比为0.5下制备的涂层;不同氧氩

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