论文部分内容阅读
采用匀胶旋涂技术将WO3溶胶沉积在硅纳米孔柱阵列（Si—NPA）衬底上，经500℃退火制得WO3／Si—NPA复合薄膜。场发射扫描电镜和X射线衍射的表面形貌和结构分析表明，WO3在Si—NPA表面形成连续薄膜，且复合薄膜保持了Si—NPA规则阵列结构的特点。湿敏测试结果显示：在11％到95％的相对湿度范围内，WO3／Si—NPA湿敏元件输出电容强，且随测试频率的增加而单调降低；随着WO3薄膜厚度的增加，湿敏元件灵敏度明显增大，但元件相应的响应／恢复时间却延长。