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利用微波气相沉积方法制备了低电阻率的n型硫掺杂和硼硫共掺杂金刚石薄膜．质子激发X射线荧光测试表明硼硫共掺杂方法能够提高硫在金刚石中的溶解度；扫描电镜和Raman光谱的分析结果表明掺杂金刚石薄膜的晶粒较完整，薄膜中存在较多的非金刚石碳相．Hall效应测试表明薄膜的导电类型为n型，电阻率为0．0246Ω·cm，载流子浓度为2．40×10^17cm^-3，Hall迁移率为10^3cm^2／(V·s)；较低的电阻率是薄膜中存在sp^2键和掺入的硫杂质等多种因素作用的结果．