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主要介绍了半导体晶圆RCA清洗工艺及化学湿法清洗设备在使用时安全隐患和防腐保护措施的应用。在设备的主体、电气控制系统、加热系统、排放系统等部分的设计的独创性和实用性得到广泛的应用。一定程度上解决了该设备在应用中的安全隐患,具有重要的意义。
湿法化学清洗设备的防护措施
【摘 要】
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主要介绍了半导体晶圆RCA清洗工艺及化学湿法清洗设备在使用时安全隐患和防腐保护措施的应用。在设备的主体、电气控制系统、加热系统、排放系统等部分的设计的独创性和实用
【机 构】
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中国电子科技集团公司第二研究所
【出 处】
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科技资讯
【发表日期】
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2009年31期
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