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现有技术制备的类金刚石（DLC）膜由于含氢、硬度低、内应力大、附着力差等特点，严重限制了其光学工程应用。激光法是近年发展的一种制备DLC膜的新方法，相比其他制备方法具有诸多优点。综合分析了激光制备DLC膜过程中，激光波长、脉宽、功率密度、衬底温度和偏压等因素对薄膜质量的影响规律。采用氧气氛辅助沉积、元素掺杂和双波长激光复合沉积等关键改进技术，实现了在Si、Ge等基底上激光制备DLC膜光学工程化应用。